ソニー、PSXに世界初の90nmDRAM混載SOC「90nm EE+GS」を採用 －90nm半導体設計環境によるSOC開発をスタート

CEATEC 2003で展示された「PSX」

　ソニー株式会社は、SOC(System On Chip)の開発を実現する90nmプロセスの半導体設計環境を構築したと発表した。

　年内に発売する「PSX」に、この設計環境によりCPUおよび描画プロセッサの機能を集積した、世界初の90nmDRAM混載SOC「90nm EE+GS」を搭載する。

　同社では2001年5月から、90nmプロセスの半導体設計環境の整備を進めており、「90nm EE+GS」の設計で、その有効性を実証したとしている。また、今回構築された設計環境により、「マルチライブラリによる、演算処理の高速化と消費電力低減の両立」、「マルチVth設計フローにより、漏れ電流を従来の50～70%に低減し、消費電力を低減する」などのメリットもあるという。

　同社では今後、「90nm設計環境をSOC開発のプラットフォームとして、社内向け各種SOC開発を加速する。また、2005年度を目処に、現在30%のソニー製品向けSOCの社内設計比率を50%まで引き上げ、高付加価値デバイスの内製化をより一層進展させる」としている。

□ソニーのホームページ
http://www.sony.co.jp/
□ニュースリリース
http://www.sony.co.jp/SonyInfo/News/Press/200310/03-041/
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http://av.watch.impress.co.jp/docs/20031007/ceat02.htm

(2003年10月16日)

[AV Watch編集部/furukawa@impress.co.jp]

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