日立、テラビットクラスの光ディスクを実現するナノ加工技術 －相変化記録膜をROMディスクに応用

　株式会社日立製作所は31日、記録密度をテラビット領域まで向上させる、ROM型光ディスク向けのナノ加工技術を開発したと発表した。相変化記録膜を利用したもので、10nm以下のピットを形成できる。

　発表されたのは、相変化記録膜にアルカリ系エッチング液を用いて、結晶領域のみを選択的にエッチングする「選択エッチング」技術。レーザーやビームを照射した部分のみピットパターンを形成できるため、記録密度を高められるという。同社ではピットパターン10nm以下を実現する可能性も示唆している。

　今回、GeSbTE(ゲルマニウム・アンチモン・テルル)を記録膜とした相変化ディスクで試したところ、約40nmの凹凸パターンを作成できたという。今後、テラビットを越える10nmを実現する可能性もある。なお、本技術は「第15回相変化記録研究会シンポジウム(PCOS2003)」で発表された。

　相変化記録は、CD-RWやDVD-RAMなどの書き換え型ディスクで使用される記録方式。記録膜を結晶またはアモルファスに変化させて記録する。また、情報の読み出しには弱いレーザー光を照射し、アモルファスと結晶の屈折率の差による反射率の変化で内容を読み出す。

□日立のホームページ
http://www.hitachi.co.jp/
□ニュースリリース
http://www.hitachi.co.jp/New/cnews/031031.html

(2003年10月31日)

[AV Watch編集部/orimoto@impress.co.jp]

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